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量産型 単結晶育成炉
型式:THM-1200-2B
<装置概要>
本装置は、半導体結晶育成用の熱処理炉で、試料の高精度移動機構を備え、移動速度は極めて遅く
10mm/day以下です。
さらに試料の回転機構をも備え、均一な結晶成長を図られる様に配慮された装置です。
<装置性能>
・使用温度
:1,000℃ 最大1,200℃
スーパーカンタルヒーター
・育成結晶サイズ
:φ50~φ80 ×150mm
・移動・回転速度
:低速運転 0.1~10 mm/day
早送運転 8~200mm/day
回転速度 2~15rpm
圧力/流体
熱処理機器
荷重/機構/移動/回転
特殊材料/試作加工
電機電子機器/制御計測
受託設計/試験
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